Paletas voladizas de SiC

Ⅰ. Paletas voladizas de SiC de alta pureza para la manipulación precisa de obleas

Las paletas voladizas de SiC son componentes esenciales en equipos de procesamiento térmico para la manipulación de obleas durante las etapas de epitaxia, difusión y oxidación en la fabricación de semiconductores. Sus excepcionales propiedades térmicas y mecánicas las hacen ideales para entornos corrosivos y de alta temperatura en salas blancas.

Ⅱ. Descripción general del producto y ventajas funcionales

1. Propiedades materiales excepcionales para aplicaciones de alto rendimiento

Las paletas voladizas de SiC de Semixlab se fabrican con recubrimientos de carburo de silicio recristalizado (R-SiC) o SiC CVD de alta pureza, lo que proporciona una excelente conductividad térmica (hasta 120 W/m·K), baja expansión térmica (~4.0 x 10⁻⁶/K) y una resistencia excepcional a la corrosión y al choque térmico. Estas propiedades garantizan un soporte estable de la oblea durante procesos de alta temperatura, minimizando así los riesgos de deformación o contaminación.

2. Estabilidad dimensional y planitud superiores

Con una deformación mínima incluso a temperaturas superiores a 1400 °C, el diseño en voladizo garantiza una colocación y transferencia uniformes de las obleas, lo cual es vital para la uniformidad de la capa epitaxial. La baja masa y la alta rigidez del SiC mejoran el rendimiento del sistema y la respuesta térmica durante el procesamiento térmico rápido.

3. Pureza de superficie de grado sala limpia

Gracias al acabado superficial denso y liso de SiC, las paletas Semixlab minimizan la generación de partículas y la desgasificación. Esto es especialmente importante en entornos que requieren niveles de limpieza de Clase 1 o Clase 14644 según la norma ISO 1-2.

4. Adaptado para hornos epitaxiales, de difusión y CVD

Nuestras paletas voladizas de SiC se utilizan ampliamente en plataformas de MOCVD, LPCVD y hornos de oxidación, y son compatibles con equipos de marcas líderes como ASM, TEL y Veeco. Están diseñadas para lograr una uniformidad térmica y precisión mecánica óptimas, lo que ayuda a garantizar un mayor rendimiento y una menor variación del proceso.

3. ¿Por qué elegir Semixlab?

Ofrecemos servicios de ingeniería a medida, incluyendo:

● Personalización del producto en cuanto a tamaño, estructura y calidad del material.

● Optimización del recubrimiento para resistencia térmica y química

● Capacidades de creación rápida de prototipos y producción de lotes pequeños

● Consultoría técnica y validación de diseño

Como fabricante y fábrica líder en China de paletas voladizas de SiC, Semixlab se esfuerza por ofrecer tecnología y soluciones de producto personalizadas. Ya sea que desee optimizar su proceso de tratamiento térmico actual, adquirir piezas de repuesto de alto rendimiento o desarrollar conjuntamente soluciones de SiC personalizadas, Semixlab le brindará soporte técnico y de entrega.

● Portadores de obleas de epitaxia MOCVD

● Brazos de paletas del horno de oxidación y difusión

● Sistemas de carga de obleas en herramientas LPCVD/CVD

● Brazos de soporte de susceptor personalizados para el crecimiento de semiconductores compuestos