Barco de obleas de cuarzo semiconductor

Las navecillas de obleas de cuarzo Semixlab Semiconductor son herramientas clave diseñadas para procesos de alta temperatura como difusión, oxidación, CVD, recocido, etc., en la fabricación de semiconductores. Fabricadas con cuarzo sintético de alta pureza, con excelente resistencia a altas temperaturas, estabilidad química y bajo coeficiente de expansión térmica, pueden transportar obleas de forma estable en entornos de proceso rigurosos, garantizando la consistencia del proceso y el rendimiento del producto.

Equipo aplicable: Compatible con todo tipo de hornos de difusión horizontal/vertical (horno de difusión horizontal/vertical), sistemas LPCVD y equipos de tratamiento térmico rápido (RTP).

Control de calidad

Control de calidad estricto: detección de fugas mediante espectrometría de masas de helio al 100 % (tasa de fuga <1×10⁻⁹ mbar·L/s). Se emite un informe de pureza del material (prueba ICP-MS) para cada lote.

Estándares de certificación: En línea con las especificaciones SEMI F47, a través de la certificación del sistema de gestión de calidad ISO 9001:2015.

Vida útil: la vida útil promedio en condiciones normales es de más de 2 años (dependiendo de la frecuencia del proceso y las condiciones de temperatura).

¿Por qué elegir nuestro barco de cuarzo?

Servicios personalizados: Tamaño y construcción personalizados según modelo de equipo (TEL, Kokusai, ASM, etc.) y requerimientos del proceso.

Respuesta rápida: el tiempo de entrega estándar es de 3 semanas, los pedidos urgentes se pueden reducir a 10 días hábiles.

Red de servicio global: Brindamos asesoramiento técnico, orientación sobre instalación y soporte de mantenimiento posventa.Especificaciones de materiales.

Especificación del proyecto

Síntesis de materiales Cuarzo fundido

Pureza ≥99.99 % SiO₂

Compatibilidad de tamaño de oblea 8", 12" (se puede personalizar 6" o 18")

Temperatura de funcionamiento ≤1200 °C (continua) / 1300 °C (pico)

Coeficiente de expansión térmica (CTE) 0.55×10⁻⁶/°C (20-1000 °C)

Rugosidad superficial (Ra) ≤0.2 μm

Capacidad estándar 25/50/100 tabletas

Gases de proceso aplicables O₂, N₂, H₂, Ar, SiH₄, HCl, etc.

Oxidación/difusión a alta temperatura: dopaje de silicio (difusión de fósforo y boro), crecimiento de óxido de puerta.

Deposición de película delgada: silicio policristalino LPCVD, deposición de nitruro de silicio (Si₃N₄).

Proceso de recocido: recocido después de la implantación de iones (RTA), aleación de metales.

Semiconductores de tercera generación: proceso de epitaxia de carburo de silicio (SiC), nitruro de galio (GaN).

1. Características del material

Cuarzo de ultra alta pureza (>99.99% SiO₂): evita la contaminación por iones metálicos (Na+, K+, Fe³+, etc.) y cumple con los requisitos de limpieza para procesos avanzados (nodos <5 nm).

Resistencia a altas temperaturas: temperatura de funcionamiento continuo de 1200 °C, resistencia a temperatura instantánea de 1300 °C, sin riesgo de deformación o cristalización.

Inercia química: Resistente a gases de proceso como HCl, H₂, O₂, SiH₄ y entornos ácidos/alcalinos. No corrosivo en uso prolongado.

2. Diseño de precisión

Optimizar la estructura:

La precisión del espaciado de las ranuras es de ±0.05 mm, lo que garantiza un posicionamiento preciso de la oblea (8/12 de pulgada) y evita rayones o desplazamientos.

Diseño resistente al choque térmico, se adapta a subidas y bajadas rápidas (tasa de calentamiento ≤20 °C/min).

Baja formación de partículas: la superficie está pulida con ultraprecisión (Ra ≤0.2 μm) para reducir la adherencia y caída de partículas.

3. Configuración diversificada

Capacidad opcional: admite 25 piezas, 50 piezas, 100 piezas y otras especificaciones estándar, también se puede personalizar un número de ranura no estándar.

Adaptación de tipo: Embarcación abierta, embarcación cerrada o tipo de embarcación especial (como diseño de canal de desviación del fondo de la embarcación).

Q1: ¿Puede proporcionar un tamaño no estándar o un diseño especial?

A1: Semixlab ofrece servicios personalizados, como ajuste de tamaño, límite superior de temperatura (se requiere actualización de material) o tipo de interfaz. Para requisitos específicos, contacte con el equipo técnico de Semixlab.

P2: ¿Cuánto dura el tiempo de entrega?

A2: El tiempo de entrega para productos estándar es de 4 a 6 semanas y el tiempo de diseño y verificación para productos personalizados es de 2 a 3 semanas.

Q3: ¿Ofrecen soporte técnico posventa?

A3: Sí, ofrecemos asesoramiento técnico y servicios de respuesta ante emergencias de por vida. En caso de problemas de instalación o uso, puede contactar con el equipo de soporte en cualquier momento por correo electrónico o teléfono.

P4: ¿El producto cumple con los estándares de la industria de semiconductores?

A4: Sí, el proceso de producción cumple con las normas SEMI y cuenta con la certificación del sistema de gestión de calidad ISO 9001. Cada lote se somete a pruebas de hermeticidad, resistencia a la temperatura y pureza antes de salir de fábrica.