oblea de cuarzo semiconductora

La oblea de cuarzo semiconductora Semixlab es un sustrato de sílice fundida de ultra alta pureza y pulido con precisión, diseñado para entornos de procesamiento de semiconductores exigentes.

Se utiliza ampliamente como oblea ficticia, oblea portadora, sustrato óptico y base de fotomáscara en sistemas de oxidación térmica, CVD/LPCVD, PECVD y litografía.

Fabricada con SiO₂ de alta pureza al 99.99%, esta oblea de cuarzo ofrece una estabilidad térmica excepcional, inercia química y transparencia óptica, lo que garantiza un funcionamiento estable y libre de contaminación en líneas de fabricación de semiconductores avanzadas.

I. Propiedades del material y de la superficie

● Material: Sílice fundida sintética o natural (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Opciones de diámetro: 2", 4", 6", 8", 12" (tamaños personalizados disponibles).

● Acabado superficial: Pulido por ambas caras, planitud ≤ 5 μm, rugosidad superficial ≤ 0.5 nm.

● Resistencia térmica: Funcionamiento continuo estable hasta 1200 °C.

● Coeficiente de expansión térmica: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Transmisión óptica: >90% de 190 nm a 2,600 nm.

Cada oblea se somete a una estricta inspección de superficie, verificación dimensional y análisis de pureza para garantizar el pleno cumplimiento de los requisitos de grado semiconductor.

II. Funciones clave en los procesos de semiconductores

1. Portador de proceso en sistemas CVD y LPCVD

Las obleas de cuarzo se utilizan como obleas de relleno o espaciadoras para estabilizar el flujo de gas y la uniformidad de la temperatura durante la deposición de películas delgadas de SiO₂, Si₃N₄ y polisilicio. Su precisión dimensional garantiza un crecimiento uniforme de la película y una mínima generación de partículas a lo largo de los ciclos de deposición.

2. Aplicaciones de hornos de oxidación y difusión

En los procesos de oxidación a alta temperatura y difusión de dopantes, las obleas de cuarzo actúan como escudos térmicos o monitores de proceso, manteniendo una distribución uniforme de la temperatura y evitando la contaminación de las obleas de producción.

3. Usos ópticos y litográficos

Gracias a su elevada transmitancia óptica y uniformidad del índice de refracción, la oblea de cuarzo es ideal para la fabricación de fotomáscaras, sustratos de exposición DUV y herramientas de calibración óptica. Garantiza una transmisión de luz constante para sistemas de litografía i-line, KrF y ArF.

4. Entornos de plasma y grabado

En los sistemas de grabado en seco y CVD por plasma, las obleas de cuarzo se utilizan como blindajes de cámara o ventanas de plasma, ofreciendo una excelente rigidez dieléctrica y durabilidad química frente a gases halogenados (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrología y calibración de equipos

Las obleas de cuarzo sirven como obleas de referencia para la calibración del espesor de la película, la temperatura y la planitud. Su superficie ultrasuave y libre de defectos permite obtener resultados de medición precisos y repetibles, lo que garantiza la estabilidad del control del proceso.

Aplicaciones principales

● Oblea ficticia para sistemas CVD, LPCVD y PECVD

● Soporte de proceso o escudo térmico en hornos de oxidación y difusión

● Sustrato de fotomáscara para litografía UV/DUV

● Oblea de referencia para calibración y metrología de equipos

● Ventana de la cámara de plasma y protector del proceso de grabado

La oblea de cuarzo semiconductora de Semixlab es un sustrato de alto rendimiento diseñado para los procesos semiconductores más exigentes. Su estabilidad térmica, precisión óptica y pureza química la hacen indispensable en aplicaciones de deposición, oxidación, litografía y metrología. Con una completa personalización y soporte técnico, Semixlab ofrece soluciones que maximizan la consistencia del proceso, la fiabilidad del rendimiento y la eficiencia operativa. Esperamos sinceramente convertirnos en su socio estratégico a largo plazo en China.