Zhejiang, 3 de junio de 2026 – Semixlab, una reconocida marca internacional en recubrimientos avanzados para materiales semiconductores, junto con su centro de fabricación e I+D, Zhejiang Liufang Semiconductor Technology Co., Ltd., ha alcanzado un hito importante en su construcción. Tras finalizar la estructura principal (cota), el proyecto ha entrado directamente en la fase de acondicionamiento interior de alta precisión. Actualmente, se está llevando a cabo un trabajo de diseño interior detallado y comprobaciones arquitectónicas en un sistema de sala limpia de última generación, apto para la industria de semiconductores.

La construcción actual incluye sistemas avanzados de control ambiental, redes de tuberías ultrapuras localizadas y módulos de flujo laminar HVAC localizados, todo ello diseñado para cumplir con estrictos límites de recuento de partículas. Según la oficina de control del proyecto, se prevé que el acabado interior completo, la instalación del sistema de filtración de aire y la certificación de la sala limpia se completen en los próximos trimestres. Esto permitirá al equipo avanzar según lo previsto para finalizar la reubicación, la calibración y las pruebas iniciales de los equipos CVD avanzados en diciembre de 2026.

Figura 1: Vista exterior de la planta de fabricación cuya estructura se ha completado con éxito.

Figura 2: Vista interior que muestra la preparación estructural y las optimizaciones de diseño en curso.

Gran aumento de capacidad para recubrimientos de última generación.

El paso de una estructura de hormigón visto a un entorno de fabricación de semiconductores ultra limpio supone un gran avance para la capacidad de producción de Semixlab. Las nuevas instalaciones abarcan más de 80 000 metros cuadrados. Una vez en pleno funcionamiento, se convertirán en un centro de fabricación de alto volumen destinado a aliviar los cuellos de botella en el suministro global del mercado de semiconductores.

El equipamiento clave de la planta incluirá hornos CVD de alta temperatura de última generación, sistemas avanzados de purificación al vacío y centros de mecanizado CNC automatizados de ultraprecisión. Gracias a la sala limpia de grado semiconductor, todos los componentes se someterán a deposición, purificación y empaquetado final en un entorno libre de contaminación. Esto es fundamental para cumplir con el contenido de cenizas extremadamente bajo (menos de 5 ppm mediante GDMS) y las tolerancias de espesor submicrométricas que exigen los fabricantes internacionales de chips.

Qué significa esto para las líneas de productos clave

Figura 3: Montaje de ingeniería de alta precisión para la preparación del enmarcado de una sala limpia de grado semiconductor.

Figura 4: Instalación activa de pavimentos especializados y módulos de purificación de aire.

Con la llegada de los equipos prevista para finales de año aún según lo programado, Semixlab se está preparando para aumentar la entrega de sus productos principales, entre los que se incluyen:

Recubrimientos de carburo de silicio (SiC) mediante CVD – para susceptores de SiC de alta pureza, anillos semicirculares y discos satélite compatibles con los principales sistemas de epitaxia.

Recubrimientos de carburo de tantalio (TaC) mediante CVD – Diseñado para componentes de campos térmicos de alta temperatura que necesitan mantenerse estables hasta 2600 °C, algo fundamental para el crecimiento de monocristales de SiC y GaN.

Recubrimientos de carbono pirolítico (PyC) – Ofrece un sellado denso y no poroso para calentadores de grafito especializados y equipos de procesamiento de obleas.

Respaldada por un sólido equipo de I+D con científicos de la Academia China de Ciencias y el Laboratorio Yongjiang, la expansión de Semixlab garantiza flexibilidad, resiliencia y una calidad constante. Invitamos a clientes de todo el mundo a programar auditorías virtuales o solicitar kits de validación de componentes de muestra mientras nos acercamos a nuestro objetivo operativo para el cuarto trimestre.